Die N-TOPCon-Technologie (Amorphous Top Surface Connection) ist eine Halbleiterproduktionstechnologie, die dazu beiträgt, die Elektronensammeleffizienz von Batterien zu verbessern und den Elektronenrückfluss zu verhindern, indem sie einen dünnen Film aus amorphem Silizium auf den Korngrenzenbereich von Siliziummaterialien aufträgt.Diese Technologie kann auch die photoelektrische Umwandlungseffizienz der Zelle optimieren, insbesondere bei schlechten Lichtverhältnissen.